中国半导体正迎接先进光刻时代到来,中芯、长江存储、华虹先后引进

作者 | 发布日期 2018 年 05 月 22 日 9:25 | 分类 国际贸易 , 处理器 , 存储
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【Technews科技新报】近期,中国半导体厂开始积极迎接先进的光刻机时代到来。就在日前,中国最大晶圆代工厂中芯国际斥资 1.2 亿美元,自荷商阿斯麦(ASML)买来中国首台极紫外线光刻机的消息曝光之后,以生产 NAND Flash 为主的长江存储,也在日前传出,同样向阿斯麦采购,价值 7,200 万美元的 193 纳米沉浸式光刻机,用于 20~14 纳米的 3D NAND Flash 生产,也同样运抵武汉。最新的是,华虹集团旗下的上海华力集成电路,也迎接了他们的首台 193 纳米双沉浸式的光刻机,以用于先进制程的晶圆制造生产。




事实上,中国在政府的政策支持下,发展半导体产业不遗余力已经不是新闻。不论是式在晶圆代工制造、DRAM、NAND Flash 等领域,过去企图透过并购、挖角以获得先进技术。但是,在制程的过程中,关键的技术设备在过去难以取得,也是阻碍中国半导体发展的原因之一。如今,似乎这样的限制正逐渐地被打开中。在相关的半导体生产中,中国厂商也开始逐渐导入先进的制程设备,以方面往更先进的制程。

据了解,在 5 月 21 日上午运抵上海浦东新区康桥工业园南区的阿斯麦双沉浸式光刻机,是由上海华宏集团旗下的华力集成电路所采购,预计将安装于兴建产线中的 12 寸晶圆厂──华虹六厂中使用。该部双沉浸式光刻机的型号为 NXT 1980Di,可用于 10 纳米级 ( 14~20 纳米)的晶圆生产,它也是中国装备的最先进的沉浸式光刻设备。

而根据市场调查研究单位 IC Insights 的资料指出,上海华虹在 2017 年的营收排名全球第八,虽然仍落后龙头台积电很大的距离。但是,其金额却仅次于中芯国际,而且年成长率高达 18%,为该年度全球成长最大的厂商。而上海华虹旗下的 12 寸晶圆厂──华虹六厂是该公司第 2 座 12 寸晶圆厂。预计产线完成建置,并正式投入生产后,最大产能可达每月 4 万片。而开始设计的制程技术为 28 纳米,最终将以 14 纳米制程作为生产标准制程技术。

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多年在财经媒体的工作资历,深入理解电子与科技产业的发展过程与趋势,亦曾经在电子媒体制作相关财经节目,为观众剖析当前最即时的财经资讯与新闻。
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