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艾司摩尔 EUV 设备生产不顺,原因是卡尔蔡司镜头供应不足

作者 |发布日期 2017 年 10 月 12 日 |分类 国际贸易 , 芯片 , 财经

【Technews科技新报】目前半导体制程已微缩到 10 纳米以下,大家都寄望借由极紫外光微影设备(EUV)协助制程向前发展,也使摩尔定律(Moore’s Law)再往下延伸。不过就目前生产 EUV 设备的艾司摩尔(ASML)来说,因为制造难度,已积压了大量订单在手上。有国外媒体指出,艾司摩尔 EUV 设备生产不顺的主因,就是来自光学镜头供应商蔡司(Carl Zeiss)供货进度跟不上需求所致。

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Nikon 状告 ASML 与伙伴 Carl Zeiss 侵权 半导体设备市场掀波澜

作者 |发布日期 2017 年 04 月 25 日 |分类 光电科技 , 芯片 , 零组件

【Technews科技新报】根据 《路透社》 的报导,日本光学大厂尼康 (Nikon) 于 24 日表示,已对荷兰半导体设备大厂艾司摩尔 (ASML Holding NV) 和合作伙伴卡尔蔡司 (Carl Zeiss AG) 提起法律诉讼,并表示 ASML 及 Carl Zeiss 两家公司在未经 Nikon 的许可下将其微影 (lithography) 技术专利用于光刻机上,并运用在半导体制造业中。

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